取扱商品案内

精密機械製品

結晶育成炉

高周波誘導加熱方式でCZ法による単結晶成長装置

結晶育成炉

特徴

使用温度 最大使用温度:2,000℃
ヒーター 高周波誘導加熱方式
チャンバー 石英管タイプ

仕様

駆動部

引上昇降軸 速度=微動:0.1~10mm/hr
高速:2~300mm/min
昇降ストローク=600mm
引上回転軸 速度=0.3~60rpm
ワークコイル昇降軸 速度=微動:0.1~10mm/hr
高速:2~300mm/min
昇降ストローク=100mm
ロードセル シード軸上に取付20K仕様

高周波電源

出力 40kW ワークコイルのみ
周波数 5~9.9kHz間で一定周波固定
電源 3Φ200V±10% 50/60Hz

外形寸法

本体 幅 / 1.45m 奥行 / 1.45m 床面積 / 2.1㎡ 高さ / 3.19m
制御盤 幅 / 0.85m 奥行 / 1.03m 床面積 / 0.88㎡ 高さ / 1.792m
高周波電源 幅 / 0.43m 奥行 / 0.81m 床面積 / 0.35㎡ 高さ / 0.8m
マッチングトランス 幅 / 0.676m 奥行 / 1.09m 床面積 / 0.74㎡ 高さ / 0.675m

高周波誘導加熱方式スカルメルト炉

高周波誘導加熱方式スカルメルト炉

貴金属坩堝を使用せずに酸化物結晶の育成を行う装置

特徴

坩堝が不要なため、低コスト化、高融点結晶育成、雰囲気ガスの選択肢増など、結晶育成において多数のメリットがあります。


アニール炉

アニール炉

二珪化モリブデンヒーターを4面縦型に配置し、高温下でかつ、広範囲にワークを加熱することができる装置

特徴

  • 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、均熱特性が良く、扉式に比べヒーター内への異物巻き込みを極力低減し、装置占有面積も小さくする事を実現しました。
  • 二珪化モリブデンヒーターを採用しており、大気雰囲気で最大1800℃まで昇温可能です。
  • 炉床昇降機構及び、炉床台車引出し機構を装備しているためより安全かつ容易に炉床台へのワークの出し入れが行えます。
  • プログラムタイプの温度調整機を採用しており、19個のプログラム(1プログラム/19ステップ)を保存、設定することが可能です。
  • ヒーターへの印加電圧・電流モニターできるので、負荷状態を判断可能です。
  • 過昇温防止や過電流防止などのインターロックを有しており、より安全に装置運用を行うことが可能です。
  • 操作パネルにカラータッチパネルディスプレイを採用しており、視認性・操作性に優れています。

仕様表

炉体サイズ

大型炉、中型炉、小型炉、ご希望の大きさで製作可能です。

炉床サイズ

最小340mm~ご希望の大きさで製作可能です。

扉式、炉床昇降式など、様々なタイプを取り揃え、炉床台車に引出し機構(アシスト)も搭載可能

大型炉 中型炉 小型炉
抵抗加熱ヒーター ヒーター材質 二珪化
モリブデンヒーター
二珪化
モリブデンヒーター
二珪化
モリブデンヒーター
ヒーター加熱面 側面4面加熱方式 側面4面加熱方式 側面4面加熱方式
炉内有効寸法 W1,030 D1,030 H530 W730 D730 H550 W380 D380 H430
均熱寸法 W1,000 D1,000 H480 W680 D680 H550 W340 D340 H400
消費電力 80kVA 45kVA 35kVA
プログラム温度調節計 温度設定範囲 0.00~1,700.0℃ 0.001,700.0℃ 0.001,700.0℃
温度検出範囲 B型ヒーター制御用
熱電対
B型ヒーター制御用
熱電対
B型ヒーター制御用
熱電対
設定分解能 0.1℃ 0.1℃ 0.1℃
プログラム数 19プログラム(19ステップ) 19プログラム(19ステップ) 19プログラム(19ステップ)
炉床昇降機構 積載荷重 2,000kg 2,000kg 1,000kg
炉床寸法 W: 1,000mm D: 1,000mm W: 680mm L: 680mm W: 340mm L: 340mm
 外形寸法 幅  1,700mm
奥行 2,080mm
高さ 2,600mm
幅  1,480mm
奥行 1,985mm
高さ 2,310mm
幅  1,100mm
奥行 1,590mm
高さ 2,260mm

真空高温抵抗合成炉

真空高温抵抗合成炉

カーボンヒーターユニット、試料移載ユニットを装着
不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し、試料を合成するための抵抗加熱装置

特徴

  • 装置は上下分割チャンバーを採用しておりますので、試料の合成を効率よく行えます。
  • 加熱効率の良い抵抗加熱方式を採用しており、最大1,800℃まで昇温可能です。
  • タッチパネルディスプレイを採用しており、視認性・操作性が優れています。
  • 制御用熱電対温度などをデータロギング及び、CSVデータとして保存する事が可能です。
  • 上下移動機構を装備しているため、安全かつ容易にワークの出し入れが可能です。
  • ヒーター温度、バルブ動作、流量制御をレシピにて管理し、自動制御にて運転をする事が可能です。


縦型抵抗加熱式ブリッジマン炉

縦型抵抗加熱炉 T11-18VR

アルミナチューブ内を不活性ガス又は酸化大気雰囲気で高温に加熱し、炉内で坩堝を移動させ、一方向凝固で結晶成長させる装置です。

特徴

  • 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、チューブ内への大気巻込みを極力低減し、装置占有面積も小さくする事が可能となりました。
  • 二珪化モリブデンヒーターを採用しており、常用1,800℃(最大1,830℃)まで昇温可能です。
  • 坩堝昇降軸の動作を精動作から粗動作までシームレスな動作が可能です。
  • 坩堝昇降機構を装備しているため、より安全かつ容易に坩堝の脱着が行えます。
  • 坩堝及び炉内温測用熱電対を任意の回転数で回転する事が可能です。
  • 熱電対温度などをデータロギング及び、CSVデータとして保存する事が可能です。
  • ヒーターへの印加電圧、電流がモニターできますので、負荷状況が判断できます。
  • 炉口シャッター機構を採用しており、炉内温度の保温性に優れています。
  • カラータッチパネルディスプレイを採用しており、視認性・操作性が優れています。
  • レシピ運用及び管理することでパワーコントロール(0~100%)自動制御にて運転をする事が可能です。
  • 追加・オプション機能にてバルブやMFCの制御も対応する事が可能です。


HOT N2ヒーター&温度コントローラ

HOT N2ヒーター&温度コントローラー

温度コントローラ
(スタンドアロン品)

HOT N2ヒーター&温度コントローラー

温度コントローラ
(増設対応)

HOT N2ヒーター&温度コントローラー


高純度N2を最大400℃まで加熱可能

特徴

  • 加熱効率がよく、クリーンにN2ガスをすばやく昇温致します
  • フェールセーフ機能搭載 流量低下信号、ヒータOFF信号入力、インターロック出力が可能 (接点・アナログ入出力、EtherNetでの接続も可)
  • 増設対応温度コントローラーは、ご使用に合わせヒーターを増設する事が可能です。タッチパネルでの温度設定、各種パラメータの設定、各種データ・グラフ表示が簡単に行えます。

仕様

HOT N2ヒーター

ヒータ仕様単相AC200V 900W単相AC200V 1800W
N2流量
150SLM300SLM
常用ガス温度150℃200℃

温度コントローラー


スタンドアロン増設対応品
チャンネル数1ch4ch (増設時最大20CH)
インターロック過昇温・流量低下 他過昇温・流量低下 他
上位接続(温度設定)デジタル・アナログ対応デジタル・アナログ対応
ヘッダーテキストテキスト

用途

半導体造装置用、真空ポンプ配管加熱用、水分除去用

テープヒーター

テープヒーター
テープヒーター
テープヒーター

脱着作業が極めて簡単
配管内の温度の均一は勿論、脱着作業の効率化を第一に考えた商品

特徴

  • 材質にPTFEシートを採用しており、アウトガス及びパーティクルが抑制できます。
  • 非常に可とう性が良く、配管への取付・施工作業が簡単です。
  • ヒーターを必要な長さ分だけ、連結して接続する事が可能です。(最大5本まで連結)

仕様

ヒータ材質PTFEシート
最大加熱温度150℃
電気仕様単相AC100V 90W
ヒータサイズ全長750㎜
配管サイズφ6.35㎜

用途

配管加熱用、ガス液化防止用

制御ユニット

制御ユニット
制御ユニット

温度制御や流量制御など、自動化させる治具ユニットです。

特徴

  • タッチパネルディスプレイを使用し、視覚的にもわかりやすく、操作ができます。
  • データロギング機能や、グラフ表示機能など、簡単で使い易い操作性となっております。
  • 温度制御、ガス流量制御(マスフローコントローラ、エアバルブ)、真空ポンプ、排気制御、搬送モーター制御などをレシピにて管理し、自動制御運転が可能です。

用途

マスフローコントローラ制御、ヒーター温度制御、搬送治具、回転制御ユニット